原位高溫高壓反應(yīng)裝置

原位高溫高壓反應(yīng)裝置采用在高壓反應(yīng)釜的內(nèi)部設(shè)置相對(duì)獨(dú)立的紅外傳感器，將紅外光傳感元件衰減全反射晶體從高壓樣品池底部的承壓殼體中剝離。紅外傳感器采用耐壓性能和中紅外光透過性能好、折射率高的晶體材料作為衰減全反射棱鏡，減小衰減全反射棱鏡的體積以及紅外傳感器的承壓截面面積，提高了系統(tǒng)的耐壓性能；采用反射倉(cāng)、光導(dǎo)纖維以及紅外傳感器設(shè)置分析光路，將紅外光譜儀的紅外發(fā)光器發(fā)出的中紅外光經(jīng)反射倉(cāng)和光導(dǎo)纖維傳輸?shù)郊t外傳感器探測(cè)平面上實(shí)現(xiàn)與高壓反應(yīng)釜內(nèi)部待測(cè)樣品的有效耦合，使通過紅外傳感器的分析光路相對(duì)獨(dú)立而不受高壓反應(yīng)釜位置偏移等因素的影響，克服了現(xiàn)有衰減全反射式高壓原位紅外監(jiān)測(cè)裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜、光路校準(zhǔn)繁瑣、檢測(cè)不準(zhǔn)確的弊端；

高溫高壓反應(yīng)池可在受控環(huán)境下研究多相催化、氣固相互作用，光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)理研究。通常高溫高壓反應(yīng)池有2路氣口，一路進(jìn)氣，一路出氣。通過進(jìn)氣口給反應(yīng)池充入高達(dá)10個(gè)大氣壓的氧氣、氮?dú)獾葰怏w以達(dá)到高壓的要求。通過激光加熱樣品，實(shí)現(xiàn)樣品與高壓氣體反應(yīng)后迅速通入液氮給腔體內(nèi)樣品降溫、淬火。為了防止低溫下反應(yīng)池遇水汽結(jié)冰，須將反應(yīng)池于超高真空腔體中。一方面反應(yīng)池內(nèi)的高壓與真空腔體的真空環(huán)境形成巨大的壓力差，另一方面從液氮溫區(qū)到1000度高溫整個(gè)溫區(qū)內(nèi)反應(yīng)池所選用材料會(huì)有很大的熱脹冷縮效應(yīng)，這些都對(duì)真空腔體內(nèi)的反應(yīng)池窗口密封以及多次重復(fù)密封都提出了嚴(yán)格的要求。現(xiàn)有技術(shù)中，高溫高壓反應(yīng)腔仍沒有解決問題的方案，也沒有高穩(wěn)定性，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可重復(fù)使用的產(chǎn)品。